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本标准与GB/T 176-1996、GB/T 19140-2003相比主要变化如下: ——增加了X射线荧光分析玻璃熔片的制备中试样的称量。 ——增加了校准方程的建立和确认。 ——允许差改为重复性限和再现性限。
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